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真空狀態定義與真空系統檢漏技術
來源:www.lxqix.tw
真空狀態定義
在真空科學中,真空的含義是指在給定的空間內低于一個大氣壓力的氣體狀態。人們通常把這種稀薄的氣體狀態稱為真空狀況。這種特定的真空狀態與人類賴以生存的大氣在狀態相比較,主要有如下幾個基本特點:
(1)真空狀態下的氣體壓力低于一個大氣壓,因此,處于地球表面上的各種真空容器中,必將受到大氣壓力的作用,其壓強差的大小由容器內外的壓差值而定。由于作用在地球表面上的一個大氣壓約為101325N/m2,因此當容器內壓力很小時,則容器所承受的大氣壓力可達到一個大氣壓。
(2)真空狀態下由于氣體稀薄,單位體積內的氣體分子數,即氣體的分子密度小于大氣壓力的氣體分子密度。因此,分子之間、分子與其他質點(如電子、離子等)之間以及分子與各種表面(如器壁)之間相互碰撞次數相對減少,使氣體的分子自由程增大。

工業真空概述:
工業上的真空指的是氣壓比一標準大氣壓小的氣體空間,是指稀薄的氣體狀態,又可分為高真空、中真空和低真空,地球以及星球中間的廣大太空就是真空。一般是用特制的抽氣機得到真空的。它的氣體稀薄程度用真空計測定,現在已能用分子抽氣機和擴散抽氣機得到0.0000000001大氣壓的高真空。真空在科學技術,電真空儀器,電子管和其他電子儀器方面,都有很大用途。


真空閥檢漏技術:

 一個理想的真空系統或者真空容器,應當是不存在任何漏孔,更不會產生任何漏氣現象的。但是,就任何真空系統或真空閥來說,絕對不漏的現象是不可能的。特別是在壓力極低的情況下,隨著漏氣現象的影響不斷加劇,真空度達不到預定的工藝要求,是一個相當普遍的問題。因此,在檢測真空閥或真空系統存在的漏氣部位、確定漏孔的大小、堵塞漏孔從而消除漏氣現象,就成為真空技術工作者的一項重要工作。
    所謂漏氣或稱實漏,它是指氣體通過真空系統上的漏孔或間隙,從高壓側流向低壓側的一種現象。真空閥檢漏技術中的一些常用基本概念有九點。

    其一稱為虛漏,它是相對于實漏而言的一種物理現象。這種現象大都是由于材料的放氣、解吸、凝解氣體的再蒸發或真空系統內存在死空間中氣體的流出等原因而引起真空系統或真空閥中壓力升高檢漏的一種現象。真空閥檢漏的時候需要排除虛漏的影響。氣密性表征著真空系統或容器的壁對空氣不渴沉頭程度的一種可能。其三是漏孔,所謂的真空閥漏孔是指真空容器上存在形狀不定、極其微小的孔洞或間隙。大氣通過這種小孔或間隙進入真空系統或容器中。第四點是真空漏率,即為真空閥漏氣速率,它代表在指定的單位時間內通過漏孔或間隙流入到真空系統或容器內的氣體量。其五是采用某種檢漏方法或真空儀器可能檢測出來的最小漏率。還有檢漏靈敏度,或者可稱之為有效靈敏度。對于它的相應時間來說,從真空閥檢漏方法開始實施到指示方法或真空儀器指示值上升到其最大值的63%時所需要的時間。而消除時間是指從檢漏方法停止到指示方法或儀器指示值下降到停止值的37%所需時間。最后就是由灰塵或液體所造成的漏孔堵塞,這些堵塞常常是指由于檢漏作業操作不當而導致發生的一種暫時現象,真空閥檢漏時似乎不漏氣,但一經排氣又會出現漏氣的一種現象,我們把它稱為漏孔的堵塞現象。

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